EUV技术量产已进入最后冲刺阶段,极紫外光步进机即将面世

2020-10-17 侠名 网络
浏览

对此Steegen暗示:“并非所有的光阻剂浸染都一样。

让芯片设计业者如AMD可以或许同时操作两家晶圆代工场;他暗示。

以及芯片上电路仓库(on-diecircuitstacks), 微影技能人员此刻将良率问题视为EUV需要思量的首要议题(来历:Imec) 在面临浩瀚挑战的同时保持乐观